光场成像系统、处理方法和装置
基本信息
| 申请号 | CN202010182173.5 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN112750156A | 公开（公告）日 | 2021-05-04 |
| 申请公布号 | CN112750156A | 申请公布日 | 2021-05-04 |
| 分类号 | G06T7/557 | 分类 | 计算；推算；计数; |
| 发明人 | 李浩天;丁俊飞 | 申请（专利权）人 | 奕目（上海）科技有限公司 |
| 代理机构 | 上海段和段律师事务所 | 代理人 | 李佳俊 |
| 地址 | 201109 上海市闵行区剑川路951号1幢1103室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 一种光场成像系统，光场成像系统的图像处理单元对于被测物体图像的处理过程包括以下步骤：A1，通过所述光场相机获取被测物体多视角图像；A2，基于极限约束原理和多视角图像，生成一系列外极线图像EPI；A3，初始化视差范围和标签数，对外极线图像EPI进行边缘检测，计算EPI斜率；A4，对全部外极线图像EPI的斜率进行后处理，获得视差标签图；A5，统计视差标签图中标签的频率分布直方图并进行滤波；A6，对直方图进行高斯拟合，依据正态分布的3δ原则重新确定视差范围；A7，如果重新确定的视差范围包含在原视差范围内，则更新视差范围，否则输出原视差范围作为最终结果。 |
