一种用于大长径比金属管材内壁镀膜的磁控溅射装置
基本信息
| 申请号 | CN202121843819.6 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN215925059U | 公开（公告）日 | 2022-03-01 |
| 申请公布号 | CN215925059U | 申请公布日 | 2022-03-01 |
| 分类号 | C23C14/35（2006.01）I;C23C14/56（2006.01）I;C23C14/06（2006.01）I;C23C14/54（2006.01）I;C23C14/16（2006.01）I;C23C14/02（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 章嵩;涂溶;王传彬;张联盟;沈强;李志荣;李迎春 | 申请（专利权）人 | 广东汇成真空科技股份有限公司 |
| 代理机构 | 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 | 代理人 | 官群;崔友明 |
| 地址 | 430070湖北省武汉市洪山区珞狮路122号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型涉及一种用于大长径比金属管材内壁镀膜的磁控溅射装置，所述装置以大长径比金属管材（4）为磁控溅射腔体，包括：一个或多个空心圆柱状靶（12）；用于支撑空心圆柱状靶的多根可伸缩支杆；控制空心圆柱状靶沿大长径比金属管材轴心方向移动的传动装置；用于大长径比金属管材两端密封的两个密封端；与一个密封端连接的抽真空系统（17）；与空心圆柱状靶通过电线连接的磁控溅射电源（10）。本实用新型提供的用于大长径比金属管材内壁镀膜的磁控溅射装置能够控制靶沿大长径比金属管材轴心方向移动，解决现有技术中靶系统自重过大，移动轨道偏离管材轴心导致镀膜效果不稳定的问题，并且通过在安装多个靶实现复杂多层复合膜层的制备。 |
