纳米掩膜材料去除生产线及其生产工艺

基本信息

申请号 CN201911228708.1 申请日 -
公开(公告)号 CN111069163A 公开(公告)日 2020-04-28
申请公布号 CN111069163A 申请公布日 2020-04-28
分类号 B08B3/10;B08B1/02;B08B1/00;B82Y10/00 分类 清洁;
发明人 林清耿;武圣彬;杨文达;王洋 申请(专利权)人 惠州易晖光电材料股份有限公司
代理机构 广州市华学知识产权代理有限公司 代理人 惠州易晖光电材料股份有限公司
地址 516006 广东省惠州市惠澳大道惠南高新科技产业园惠泰路7号G栋厂房1至2层
法律状态 -

摘要

摘要 本发明涉及特殊材料去除技术领域,公开了一种纳米掩膜材料去除生产线及其生产工艺,其生产工艺包括以下步骤:将操作平台浸入水槽的水中;控制进料运输机构将导电结构板运输到操作平台上,导电结构板包括从内到外依次层叠设置的基板、导电膜及纳米掩膜材料;在操作平台开设多个通孔,控制真空吸附装置抽取多个通孔内的气体,以将导电结构板吸附固定在操作平台上;控制传送位移组件驱动擦除工具在导电结构板外表面进行擦拭操作,以去除纳米掩膜材料。本发明能够连续式、规模化地去除纳米掩膜材料,能够提高去除纳米掩膜材料的高效性,能够在去除纳米掩膜材料的过程中避免导电结构板外表面受到损伤。