一种具有残古纹效果的真空镀膜方法
基本信息
| 申请号 | CN202110827097.3 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113549869A | 公开（公告）日 | 2021-10-26 |
| 申请公布号 | CN113549869A | 申请公布日 | 2021-10-26 |
| 分类号 | C23C14/02（2006.01）I;C23C14/06（2006.01）I;C23C14/10（2006.01）I;C23C14/16（2006.01）I;C23C14/58（2006.01）I;C23C14/34（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 夏白杨;明松 | 申请（专利权）人 | 深圳市智创谷技术有限公司 |
| 代理机构 | 深圳市诺正鑫泽知识产权代理有限公司 | 代理人 | 林国友 |
| 地址 | 518000广东省深圳市光明区凤凰街道凤凰社区观光路招商局光明科技园A3栋D801-1 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提出一种具有残古纹效果的真空镀膜方法，具有残古纹效果的真空镀膜方法采用中频沉积一层纯铬作为过渡层，可以有效地提高膜层与基体间结合力，使产品表面达到一致性；通过采用中频溅射沉积铬和石墨混合涂层，可有效调整基础与膜层之间粘合力，在后续震动研磨时能更好的去除膜层漏出基材原色呈现残古纹效果；通过采用中频溅射沉积石墨面色层，可有效调整膜层硬度、内应力，在后续震动研磨时不会出现片状脱落及无法脱落现象；通过采用中频溅射在最外层沉积一层二氧化硅透明膜层，能有效减少指纹印及一定防水效果能涂层及基材。 |
