微型精密掩膜板及其制作方法和AMOLED显示器件

基本信息

申请号 CN201980083882.3 申请日 -
公开(公告)号 CN113286916A 公开(公告)日 2021-08-20
申请公布号 CN113286916A 申请公布日 2021-08-20
分类号 C23C14/04;C23C14/24;H01L51/56 分类 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕;
发明人 陈鼎国 申请(专利权)人 寰采星科技(宁波)有限公司
代理机构 北京景闻知识产权代理有限公司 代理人 卢春燕
地址 315174 浙江省宁波市海曙区高桥镇新联村
法律状态 -

摘要

摘要 一种微型精密掩膜板及其制作方法和AMOLED显示器件,制作方法包括如下步骤:S1、选取基板(10)并进行清洗;S2、在基板(10)上制作掩膜板本体,所述掩膜板本体包括依次设置的离形层(20)、第一金属镀膜(30)与第二金属镀膜(40),或依次设置的有机高分子层(20)、第一金属镀膜(30)与第二金属镀膜(40);S3、在第二金属镀膜(40)上焊接掩膜板框架(50),并制作贯穿掩膜板本体的多个微孔,或制作贯穿掩膜板本体的多个微孔并在第二金属镀膜(40)上焊接掩膜板框架(50);获得微型精密掩膜板。微型精密掩膜板可蒸镀有机发光器件,制作出以红绿蓝或其它颜色发光器件为子画素设计组合而成的超高分辨率全彩有机发光二极体(OLED)显示器件。