化学气相沉积设备及其手盘斜度自动调节结构
基本信息
| 申请号 | CN202121041057.8 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN215163126U | 公开（公告）日 | 2021-12-14 |
| 申请公布号 | CN215163126U | 申请公布日 | 2021-12-14 |
| 分类号 | C23C16/54（2006.01）I;C23C16/52（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 魏桂忠;侯志义;霍晓阳 | 申请（专利权）人 | 河北普兴电子科技股份有限公司 |
| 代理机构 | 石家庄国为知识产权事务所 | 代理人 | 李荣文 |
| 地址 | 050200河北省石家庄市鹿泉经济开发区昌盛大街21号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型提供了一种化学气相沉积设备及其手盘斜度自动调节结构，属于半导体技术领域，手盘斜度自动调节结构包括机械手和调节组件，其中，机械手包括：移动本体；手杆，一端转动连接于移动本体；手盘，连接于手杆的另一端；以及偏心轴系，其周向轮廓抵接于手杆的周向轮廓；调节组件包括：驱动电机，设于移动本体，且连接于偏心轴系；以及控制器，与驱动电机通信连接，且用以内置于或外置于化学气相沉积设备，控制器控制驱动电机带动偏心轴系旋转以使手杆处于目标斜度。上述手盘斜度自动调节结构实现了手杆及手盘斜度的自动调整，能够在装取片的过程中，自动地调整偏心轴系的旋转角度，无需停机，兼容地协调手盘斜度和片子表面缺陷之间的矛盾。 |
