一种应用于石英基材的碳化硼梯度涂层及其制备方法
基本信息
| 申请号 | CN201310693535.7 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN104711503A | 公开（公告）日 | 2015-06-17 |
| 申请公布号 | CN104711503A | 申请公布日 | 2015-06-17 |
| 分类号 | C23C4/10(2006.01)I;B22F1/00(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 王文东;夏洋;李楠 | 申请（专利权）人 | 北京美桥电子设备有限公司 |
| 代理机构 | 北京华沛德权律师事务所 | 代理人 | 中国科学院微电子研究所;北京美桥电子设备有限公司 |
| 地址 | 100029 北京市朝阳区北土城西路3号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明涉及半导体刻蚀机内衬及石英表面防蚀处理技术领域，具体涉及一种应用于石英基材的碳化硼梯度涂层。所述涂层，包括依次喷涂在石英基材表面的第一涂层，由第一百分含量的二氧化硅粉末和第二百分含量的碳化硼粉末混合喷涂而成，第一百分含量和第二百分含量之和为100%；第二涂层，由第三百分含量的二氧化硅粉末和第四百分含量的碳化硼粉末混合喷涂而成，第三百分含量和第四百分含量之和为100%；碳化硼涂层，为纯碳化硼粉末喷涂而成；第三百分含量小于第一百分含量。本发明还涉及一种所述梯度涂层的制备方法。本发明的梯度涂层组分和结构的梯度变化可以降低或消除界面、物性突变和界面应力，提高石英基材和碳化硼涂层界面结合强度。 |
