一种荧光量子点的优化处理方法
基本信息
| 申请号 | CN201811340801.7 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN109609114B | 公开（公告）日 | 2022-03-01 |
| 申请公布号 | CN109609114B | 申请公布日 | 2022-03-01 |
| 分类号 | C09K11/02（2006.01）ICN 101775112 A,2010.07.14;CN 102690658 A,2012.09.26;CN 104927866 A,2015.09.23;CN 101724402 A,2010.06.09;CN 107982549 A,2018.05.04;CN 102961753 A,2013.03.13;CN 105754594 A,2016.07.13 Jian Cao et al.,.“Fabrication of P（NIPAAm-co-AAm） coated optical-magnetic quantum dots/silica core-shell nanocomposites for temperature triggereddrug release, bioimaging and in vivo tumor inhibition.《Journal of Materials Science: Materials in Medicine》.2018,（第29期）,第169-1至169-13页.;Nathalie Travert-Branger et al.，.In Situ Electron-Beam Polymerization Stabilized Quantum Dot Micelles.《Langmuir》.2011,第27卷（第8期）,第4358-4361页.;蔡杰等，.“载有量子点的介孔二氧化硅微球的制备与性能研究”.《化学学报》.2008,第66卷（第8期）,第923-929页. | 分类 | 染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用; |
| 发明人 | 卢睿;边盾;杨磊;刘莹 | 申请（专利权）人 | 天津市中环量子科技有限公司 |
| 代理机构 | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 | 代理人 | 唐致明 |
| 地址 | 300380天津市西青区西青学府工业区学府西路1号东区D19号厂房A1-2 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种荧光量子点的优化处理方法，包括以下步骤：（1）制备荧光量子点包覆复合材料，所述荧光量子点包覆复合材料包括荧光量子点和包覆在所述荧光量子点上的阻挡层；（2）取荧光量子点包覆材料，加入硅烷偶联剂二，加热搅拌，所述硅烷偶联剂二含有官能团碳碳双键、环氧基、丙烯酸基、氨基甲酸酯基中的任一种；（3）在步骤（2）的产物表面制备聚合物层；（4）对步骤（3）的产物进行辐照处理。利用本发明的方法优化处理后的荧光量子点能够保持较好的量子产率，提高了材料的化学稳定性和使用寿命。 |
