一种消除应力残留的聚丙烯膜层的制备方法
基本信息
申请号 | CN202011156587.7 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN112300426A | 公开(公告)日 | 2021-02-02 |
申请公布号 | CN112300426A | 申请公布日 | 2021-02-02 |
分类号 | C08J7/00(2006.01)I; | 分类 | 有机高分子化合物;其制备或化学加工;以其为基料的组合物; |
发明人 | 吴安理;陈汉城;王桂彬;林杰生 | 申请(专利权)人 | 广东安德力新材料有限公司 |
代理机构 | 北京慕达星云知识产权代理事务所(特殊普通合伙) | 代理人 | 符继超 |
地址 | 515800广东省汕头市澄海区上华镇厦岛路北侧安德力工业园 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本发明公开了一种消除应力残留的聚丙烯膜层的制备方法,具体步骤:S1,将聚丙烯膜边角料粉碎,加入聚丙烯树脂、增塑剂,干燥;S2,混合料置入高混机中,加入聚四氟乙烯树脂、抗氧剂、润滑剂搅拌均匀;S3,混合料挤出铸片;S4,冷却定型,双向拉伸;S5,退火,干燥,裁边;S6,双面电晕处理,收卷,切分得到成品。本发明通过退火处理消除聚丙烯膜层的内应力,本发明还能改善聚丙烯膜层的强度、韧性,对废弃聚丙烯膜边角料进行回收再利用。 |
