一种消除应力残留的聚丙烯膜层的制备方法

基本信息

申请号 CN202011156587.7 申请日 -
公开(公告)号 CN112300426A 公开(公告)日 2021-02-02
申请公布号 CN112300426A 申请公布日 2021-02-02
分类号 C08J7/00(2006.01)I; 分类 有机高分子化合物;其制备或化学加工;以其为基料的组合物;
发明人 吴安理;陈汉城;王桂彬;林杰生 申请(专利权)人 广东安德力新材料有限公司
代理机构 北京慕达星云知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 代理人 符继超
地址 515800广东省汕头市澄海区上华镇厦岛路北侧安德力工业园
法律状态 -

摘要

摘要 本发明公开了一种消除应力残留的聚丙烯膜层的制备方法,具体步骤:S1,将聚丙烯膜边角料粉碎,加入聚丙烯树脂、增塑剂,干燥;S2,混合料置入高混机中,加入聚四氟乙烯树脂、抗氧剂、润滑剂搅拌均匀;S3,混合料挤出铸片;S4,冷却定型,双向拉伸;S5,退火,干燥,裁边;S6,双面电晕处理,收卷,切分得到成品。本发明通过退火处理消除聚丙烯膜层的内应力,本发明还能改善聚丙烯膜层的强度、韧性,对废弃聚丙烯膜边角料进行回收再利用。