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光电元件氦质谱检漏方法

基本信息

申请号	CN201911056473.2	申请日	-
公开（公告）号	CN110631774B	公开（公告）日	2021-02-26
申请公布号	CN110631774B	申请公布日	2021-02-26
分类号	G01M3/20(2006.01)I	分类	测量；测试;
发明人	谢少华;陈开帆;胡靖;刘贻远;黄黎明	申请（专利权）人	武汉东飞凌科技有限公司
代理机构	深圳中一联合知识产权代理有限公司	代理人	周伟锋
地址	430000湖北省武汉市东湖新技术开发区流芳园南路9号光谷电子工业园3号厂房2楼2-201室
法律状态	-

摘要

本发明提供了一种光电元件氦质谱检漏方法，包括以下步骤：S01、将盛载有待检光电元件的第一料盘放入第一真空容器内；S02、向第一真空容器内注入氦气，并进行密封保压；S03、从第一真空容器内取出第一料盘；S04、将待检光电元件整体转移至第二料盘上；S05、将第二料盘放入第二真空容器内；S06、对第二真空容器抽真空，并利用氦质谱检漏仪对第二真空容器内的气体进行检测分析。本发明采用了第二料盘，通过第二料盘将第一料盘上的待检光电元件一次性地转移，并且盛载待检光电元件放入第二真空容器进行氦质谱检漏，从而有效地解决了氦质谱检漏时光电元件需要零散地放入检漏罐的技术问题，确保了氦质谱检漏仪检漏的准确性，提高了光电元件的检漏效率。