一种高通量薄膜的制备装置及方法
基本信息
| 申请号 | CN202110135614.0 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN112962068A | 公开（公告）日 | 2021-06-15 |
| 申请公布号 | CN112962068A | 申请公布日 | 2021-06-15 |
| 分类号 | C23C14/34（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 尹彬;张庆钊 | 申请（专利权）人 | 北京中科泰龙电子技术有限公司 |
| 代理机构 | 北京高沃律师事务所 | 代理人 | 张德才 |
| 地址 | 100029北京市朝阳区北土城西路3号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开一种高通量薄膜的制备装置及方法，涉及高通量薄膜制备装置技术领域，主要结构包括样品台、多个溅射靶、纵向挡板和横向挡板；样品台设置于多个溅射靶的中部，并与多个溅射靶相隔一定距离；纵向挡板和横向挡板设置于样品台与多个溅射靶之间；纵向挡板和横向挡板均可沿水平方向平移，纵向挡板和横向挡板的移动方向相垂直。纵向挡板和横向挡板上分别设有一镂空孔，通过调整纵向挡板和横向挡板的位置，使两个镂空孔的交叉点处于样品台的不同区域，并通过改变各溅射靶的溅射功率，从而在样品台上不同区域溅射出不同成分的镀膜，从而对装置内部一次抽真空即可完成多个样品的制备，缩短了制备样品所需的时间，从而提高材料的研发速度。 |
