一种晶圆清理装置
基本信息
申请号 | CN202123285659.0 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN216539937U | 公开(公告)日 | 2022-05-17 |
申请公布号 | CN216539937U | 申请公布日 | 2022-05-17 |
分类号 | B08B5/02(2006.01)I;B08B13/00(2006.01)I;B08B5/04(2006.01)I;B01D46/02(2006.01)I | 分类 | 清洁; |
发明人 | 刘琨 | 申请(专利权)人 | 南京伟测半导体科技有限公司 |
代理机构 | 上海和华启核知识产权代理有限公司 | 代理人 | - |
地址 | 211806江苏省南京市浦口区浦口经济开发区双峰路69号C-93 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本实用新型揭示了一种晶圆清理装置,包括操作台,所述操作台上通过第一安装架安装有至少两个清理头,所述清理头上连接有通气管,所述通气管远离所述清理头一端通过脚踏压力阀连接有气体管道。本实用新型在清理过程中可双手控制晶圆移动,保持晶圆清理过程的稳定性。 |
