不同反射率表面三维结构光测量的曝光值选择方法
基本信息
| 申请号 | CN202111658669.6 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN114302067A | 公开（公告）日 | 2022-04-08 |
| 申请公布号 | CN114302067A | 申请公布日 | 2022-04-08 |
| 分类号 | H04N5/235（2006.01）I;G01B11/25（2006.01）I | 分类 | 电通信技术; |
| 发明人 | 葛继;刘国营 | 申请（专利权）人 | 无锡图创智能科技有限公司 |
| 代理机构 | 无锡市汇诚永信专利代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 郭慧 |
| 地址 | 214028江苏省无锡市经济开发区高浪东路999-8-A1-101-101 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种不同反射率表面三维结构光测量的曝光值选择方法，其可避免区域过度曝光，可提高单一最佳曝光覆盖像素测量的准确性，该方法包括：图像采集，获得预测试图像，判断预测试图像中是否存在过曝光区域，若否，则停止，若是，则进行多重曝光的选择，多重曝光的选择包括：S1、曝光的初始化，S2、用像素滤波器选择多个曝光，S3、通过优化确定下一个曝光值，重复执行步骤S1～S3，直至预测试图像中的合格像素的比率大于等于95％。 |
