一种采用双束对照的电子束辐照装置
基本信息
申请号 | CN201921374500.6 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN210489264U | 公开(公告)日 | 2020-05-08 |
申请公布号 | CN210489264U | 申请公布日 | 2020-05-08 |
分类号 | G21K5/04;G21K5/08;G21K5/10 | 分类 | 核物理;核工程; |
发明人 | 聂元存;高宁;蒋弢;袁卫峰;李湘平;胡飞;王俊佳;姜晨 | 申请(专利权)人 | 上海沃氪机械科技有限责任公司 |
代理机构 | - | 代理人 | - |
地址 | 201508 上海市金山区漕泾镇亭卫公路3308号2幢B区 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本实用新型公开了一种采用双束对照的电子束辐照装置,包括支架、左传送台、右传送台和真空辐照盒,所述支架上部设有左传送台,所述左传送台通过螺栓与支架固定连接,所述左传送台右侧设有右传送台,所述左传送台和右传送台内部设有传动带,所述左传送台和右传送台之间设有支撑杆,该一种采用双束对照的电子束辐照装置,通过电子枪、加速器、扫描磁铁和真空辐照盒对被照射物品进行照射,同时托板上同样设置有电子枪、加速器、扫描磁铁和真空辐照盒,能够发射出向上的光束,同时对被照射物品的背面进行照射,这样一来,被辐照物品只需要在传输带上传送一次,就可以同时完成正面和反面的照射,原本要翻面进行二次辐照的物品不再需要翻面。 |
