光罩杂质去除设备和光罩杂质去除方法
基本信息
| 申请号 | CN202110126225.1 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN112934859A | 公开（公告）日 | 2021-06-11 |
| 申请公布号 | CN112934859A | 申请公布日 | 2021-06-11 |
| 分类号 | B08B7/00 | 分类 | 清洁; |
| 发明人 | 韩露露;贺遵火;吴仕伟;谢发政 | 申请（专利权）人 | 泉意光罩光电科技（济南）有限公司 |
| 代理机构 | 北京超凡宏宇专利代理事务所（特殊普通合伙） | 代理人 | 刘曾 |
| 地址 | 250000 山东省济南市高新区机场路7617号411-2-9室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明的实施例提供了一种光罩杂质去除设备和光罩杂质去除方法，涉及半导体技术领域，光罩杂质去除设备包括黏胶棒、升降机构和承载盘，承载盘用于放置光罩，黏胶棒与升降机构传动连接，并与承载盘相对设置，升降机构设置在承载盘的一侧，用于带动黏胶棒靠近或者远离光罩，黏胶棒用于粘附光罩表面的杂质。相较于现有技术，本发明提供了一种新型的杂质去除方式，能够有效粘走杂质微粒，避免了由于静电吸附导致的杂质去除不彻底的情况，同时，无需额外设置复杂的吹扫机构和滴液辅助结构，操作过程简单，简化了杂质去除流程。 |
