光罩缺陷修复方法、光罩制备方法和光罩
基本信息
| 申请号 | CN202011516646.7 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN112526820A | 公开（公告）日 | 2021-03-19 |
| 申请公布号 | CN112526820A | 申请公布日 | 2021-03-19 |
| 分类号 | G03F1/72 | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 高翌;贺遵火;张哲玮;朱佳楠 | 申请（专利权）人 | 泉意光罩光电科技（济南）有限公司 |
| 代理机构 | 北京超凡宏宇专利代理事务所（特殊普通合伙） | 代理人 | 刘曾 |
| 地址 | 250000 山东省济南市高新区机场路7617号411-2-9室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明的实施例提供了一种光罩缺陷修复方法、光罩制备方法和光罩，涉及半导体光刻工艺技术领域，采用该光罩缺陷修复方法，在沉积修复材料之前，对遮光层的透光缺陷区域内的光罩衬底进行表面粗糙化处理，以使透光缺陷区域内的光罩衬底的表面粗糙化，利用增加沉积表面粗糙度的形式，使得沉积物与沉积表面之间的接触面增大，增加沉积物的附着性，使得沉积物不易因清洗而剥落，降低大面积透光缺陷的沉积修补的失败率。 |
