首页/ 沈阳东大新冶金技术有限公司/ 专利详情

一种两瓣式浸入式水口电磁旋流装置及其支撑装置

基本信息

申请号 CN201410255519.4 申请日 -
公开（公告）号 CN105268935A 公开（公告）日 2016-01-27
申请公布号 CN105268935A 申请公布日 2016-01-27
分类号 B22D11/115;B22D41/62 分类 铸造；粉末冶金;
发明人 王强;赫冀成;李德伟;苏志坚;丸川雄净 申请（专利权）人 沈阳东大新冶金技术有限公司
代理机构 沈阳东大知识产权代理有限公司 代理人 崔兰莳
地址 110819 辽宁省沈阳市和平区文化路3号巷11号
法律状态 -

摘要

摘要 一种两瓣式浸入式水口电磁旋流装置及其支撑装置，属于连续铸造技术领域。本发明包括电磁旋流装置本体和开合控制机构，在本体内设置有绕阻；本体由左半壳体和右半壳体组成，左半壳体和右半壳体为两个对称的半圆环形结构，在左半壳体和右半壳体上分别设置有进水口、出水口和接线柱，左半壳体和右半壳体的一端通过铰连接相连，另一端相对的侧壁上分别开有左半通槽和右半通槽；左半壳体与右半壳体闭合后，电磁旋流装置本体呈圆环形，左半通槽和右半通槽形成一通孔，即保护渣添加口；左半壳体和右半壳体的非铰连接处分别与开合控制机构相连接。支撑装置由支撑杆组成，支撑杆的一端固定在铰连接上，另一端与中间包横梁固定连接。