单晶磨抛控制系统

基本信息

申请号 CN202020234397.1 申请日 -
公开(公告)号 CN211841375U 公开(公告)日 2020-11-03
申请公布号 CN211841375U 申请公布日 2020-11-03
分类号 B24B19/22(2006.01)I 分类 磨削;抛光;
发明人 李泽荣;王得义;张宇 申请(专利权)人 青岛思锐自动化工程有限公司
代理机构 青岛发思特专利商标代理有限公司 代理人 青岛思锐自动化工程有限公司
地址 266101山东省青岛市崂山区株洲路177号惠特工业城5号楼西单元4层
法律状态 -

摘要

摘要 本实用新型涉及一种单晶磨抛控制系统,属于单晶的联动控制技术领域。本实用新型包括PLC控制器、夹持机构、磨抛机构、位移传感器、工作台和丝杠机构,还包括夹持变频器、磨抛变频器、丝杠变频器、显示器和位移控制器,PLC控制器控制夹持变频器控制夹持机构,夹持机构控制单晶的夹持;PLC控制器控制磨抛变频器控制磨抛机构,磨抛机构控制单晶的粗磨和精磨;PLC控制器控制丝杠变频器控制丝杠机构,丝杠机构控制夹持机构的左右间距;PLC控制器通过位移控制器控制位移传感器,位移传感器检测单晶的边缘,检测到的边缘信号通过PLC控制器反馈到磨抛机构对单晶的磨抛进行控制,提高磨抛质量。