一种蒸镀装置
基本信息
| 申请号 | CN202010531723.X | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN111663103A | 公开（公告）日 | 2020-09-15 |
| 申请公布号 | CN111663103A | 申请公布日 | 2020-09-15 |
| 分类号 | C23C14/24(2006.01)I;C23C14/54(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 高志扬 | 申请（专利权）人 | 合肥视涯显示科技有限公司 |
| 代理机构 | 北京品源专利代理有限公司 | 代理人 | 合肥视涯显示科技有限公司 |
| 地址 | 230012安徽省合肥市新站区合肥综合保税区内 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明涉及蒸镀技术领域，公开一种蒸镀装置，其包括：蒸发源组件，包括蒸发源本体、第一喷嘴和第二喷嘴，第二喷嘴位于第一喷嘴的外侧，第一喷嘴的第一半径r1小于第二喷嘴的第二半径r2；限制板，限制板的个数为两个，两个限制板沿蒸发源本体宽度方向分别设于蒸发源本体的两侧且面对面设置，限制板正对第一喷嘴的部位高出第一喷嘴的高度为第一高度，限制板正对第二喷嘴的部位高出第二喷嘴的高度为第二高度，第一高度小于第二高度。本发明公开的蒸镀结构通过增高半径较大的第二喷嘴正对的限制板的高度，在不改变膜层沿蒸发源本体长度方向的厚度的前提下，从而使位于基板上的膜层沿限制板的宽度方向的厚度降低，即提高了膜层的整体均匀性。 |
