一种完整单球体研磨抛光装置
基本信息
申请号 | CN202121802255.1 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN215968176U | 公开(公告)日 | 2022-03-08 |
申请公布号 | CN215968176U | 申请公布日 | 2022-03-08 |
分类号 | B24B37/025(2012.01)I;B24B37/005(2012.01)I;B24B37/34(2012.01)I;B24B41/02(2006.01)I;B24B41/00(2006.01)I;B24B57/02(2006.01)I;B24B27/00(2006.01)I | 分类 | 磨削;抛光; |
发明人 | 杨少林;范占军;盛旺;黄康;卢辉;吴建栋;商润龙;李金泽 | 申请(专利权)人 | 宁夏高创特能源科技有限公司 |
代理机构 | 宁夏合天律师事务所 | 代理人 | 郭立宁 |
地址 | 750021宁夏回族自治区银川市西夏区文昌北街204号 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 一种完整单球体研磨抛光装置,该装置包括设备机台、三个自由轨座滑台、三个电机研磨抛光组件、用于悬浮支撑球体均衡压力机构、研磨抛光液供给系统,以及PLC电控系统。所述PLC电控系统分为粗磨、精磨、粗抛、精抛四套程序。加工步骤分a.b.c.d四个步骤,在a、b、c三个步骤中,高转速值范围为150~200转/分钟,低转速值范围100~150转/分钟;在步骤d中,三电机的相同转速设置为前三步骤高低电机转速的平均值,保证球体在每一步骤中的运动速度基本相同。本实用新型采用等角均匀对称“三足鼎立”悬浮球体结构,使研磨头时刻与球体保持紧密贴合,有助于提高加工精度,通过PLC电控系统,大大提高了加工效率。 |
