一种稳定性能好的电光分析天平
基本信息
| 申请号 | CN202022247988.5 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN213021903U | 公开（公告）日 | 2021-04-20 |
| 申请公布号 | CN213021903U | 申请公布日 | 2021-04-20 |
| 分类号 | G01G21/00(2006.01)I;G01G23/00(2006.01)I | 分类 | 测量；测试; |
| 发明人 | 杨光照 | 申请（专利权）人 | 山西全盛化工有限责任公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 037200山西省朔州市右玉县新城镇张家店西坪 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种稳定性能好的电光分析天平，包括底座，所述底座的顶部固定连接有电光分析天平主体，所述底座底部的两侧均固定连接有行走轮，所述底座内腔的顶部固定连接有壳体。本实用新型通过设置底座、电光分析天平主体、行走轮、壳体、固定座、双转子电机、螺杆、螺纹块、第一固定块、拉杆、第二固定块、移动板、防滑垫、轴承座、滑套、滑杆、滑板、滑槽、滑块、弹簧和立柱的相互配合，达到了稳定性能好的优点，解决了现有的电光分析天平，稳定性能差，当人们将电光分析天平移动至指定位置后，无法对其进行固定，容易造成电光分析天平出现滑动的现象，影响其安全性，不方便人们使用的问题。 |
