便于维护保养的磁控溅射制备ITO薄膜的系统
基本信息
| 申请号 | CN201710288617.1 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN107043916B | 公开（公告）日 | 2019-08-02 |
| 申请公布号 | CN107043916B | 申请公布日 | 2019-08-02 |
| 分类号 | C23C14/35（2006.01）I; C23C14/08（2006.01）I; C23C14/02（2006.01）I; C23C14/50（2006.01）I; C23C14/56（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 易鉴荣; 唐臻; 林荔珊 | 申请（专利权）人 | 柳州豪祥特科技有限公司 |
| 代理机构 | 北京远大卓悦知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 靳浩 |
| 地址 | 545616 广西壮族自治区柳州市柳东新区官塘创业园研发中心2号楼511号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种便于维护保养的磁控溅射制备ITO薄膜的系统，包括：依次相连的预热腔、沉积腔、冷却腔、成品腔和真空泵以及控制面板。所述沉积腔的两侧壁上设置有ITO靶材和磁体，所述沉积腔的上部的开口上设置有顶盖，所述顶盖的下方活动连接有具有夹层的中空的输气板，所述输气板的下表面均匀开设有多个通孔，以使反应气体由所述夹层通入沉积腔，所述沉积腔的下表面上均匀设置有若干支柱，所述支柱可上下运动；所述成品腔内设置有多个格栅，以将所述成品腔均匀分隔为多个隔室。其采用流水线式的制备系统，使得成膜效率大大提高，且成膜均匀质量高。同时所述系统方便系统的清洁和维护，减轻了维护保养的工作量，提高了工作效率。 |
