离子选择性功能隔膜及其制备方法和应用
基本信息
申请号 | CN202010425394.0 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN113764830A | 公开(公告)日 | 2021-12-07 |
申请公布号 | CN113764830A | 申请公布日 | 2021-12-07 |
分类号 | H01M50/497(2021.01)I;H01M50/449(2021.01)I;H01M50/403(2021.01)I;H01M10/0525(2010.01)I | 分类 | 基本电气元件; |
发明人 | 王志豪;陶晶;杜辉;王思双;欧阳玲萍;陈瀚 | 申请(专利权)人 | 重庆恩捷纽米科技股份有限公司 |
代理机构 | 重庆航图知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人 | 霍本俊 |
地址 | 401121重庆市长寿区晏家街道齐心大道22号 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本发明公开了一种离子选择性功能隔膜及其制备方法和应用。所述离子选择性功能隔膜包括隔膜和涂覆于隔膜单侧或双侧的离子选择性功能涂层,所述离子选择性功能涂层由含有离子选择性材料的浆液涂覆而成。本发明利用离子选择性材料对过渡金属离子的选择性,在保证锂离子穿过性的前提下选择性的阻止过渡金属离子穿过,从而达到阻止正极溶解的过渡金属离子迁移沉积到负极的目的,改善了电池衰减。实验表明,本发明的离子选择性功能隔膜使沉积在负极SEI上的过渡金属含量从182ppm减少到101ppm,使循环中LMO/graphite电池的容量保留率提高2.3倍。 |
