一种双面透明导电材料的激光蚀刻工艺方法
基本信息
| 申请号 | CN202010829683.7 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN111906448A | 公开（公告）日 | 2020-11-10 |
| 申请公布号 | CN111906448A | 申请公布日 | 2020-11-10 |
| 分类号 | B23K26/362(2014.01)I;B23K26/50(2014.01)I | 分类 | 机床；不包含在其他类目中的金属加工; |
| 发明人 | 陈刚;袁聪;林少辉;汪伟;方小春 | 申请（专利权）人 | 湖北吉事达科技有限公司 |
| 代理机构 | 江苏殊成律师事务所 | 代理人 | 杨桂平 |
| 地址 | 430070湖北省孝感市孝感国家高新技术开发区孝汉大道57号上海产业园 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种双面透明导电材料的激光蚀刻工艺方法，工艺步骤：1）采用椭偏仪测试在可见光波段范围内，双面透明导电材料的A面B面导电膜层的折射率nA，nB以及基材（无导电层的）的折射率nc；2）计算所述材料的A面和B面所对应的全反射角θA，θB；3）将1所述材料A面朝上，放在工作平台上，将激光蚀刻机加工头与工作平台的角度θwork≥θA，进行图档的蚀刻。4）同样要求将材料翻面B面朝上，进行图档的蚀刻。5）双面线路蚀刻工作结束，材料的A面和B面即制作出了对应的图案。采用全反射原理进行光路调整，无折射光进入基材及反面的导电膜层，保证正面膜材激光蚀刻后完全对反面膜材无任何损伤，具体较好的技术效果。 |
