一种还原炉降温装置
基本信息
| 申请号 | CN201120002760.8 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN201942792U | 公开（公告）日 | 2011-08-24 |
| 申请公布号 | CN201942792U | 申请公布日 | 2011-08-24 |
| 分类号 | C30B28/14(2006.01)I | 分类 | 晶体生长〔3〕; |
| 发明人 | 杨龙军;马麟;张扬;易成刚;于振江;张智利 | 申请（专利权）人 | 洛阳世纪新源硅业科技有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 471333 河南省洛阳市伊川县水寨镇左寨村 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 一种还原炉降温装置，确保还原炉降温方式充分，同时将富余水蒸气送往多晶硅生产的精馏装置、空调采暖装置、溴化锂装置等使用，降低多晶硅生产的投资成本和生产成本，节约了能源，提高效益，达到了还原系统操作稳定、生产安全的目的，无污染，有利于环境保护。它由：软化水进水管道，低温软化水下水管道，还原炉，还原炉壳程，高温软化水上水管道，软化水汽包，除沫器，水蒸气排气管道，水蒸气供气总管道构成；结构简单，改造方便，投资小、回收快，节约了时间，减排降耗。 |
