一种硅片清洗装置
基本信息
| 申请号 | CN202022171852.0 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN213529930U | 公开（公告）日 | 2021-06-25 |
| 申请公布号 | CN213529930U | 申请公布日 | 2021-06-25 |
| 分类号 | B08B3/10（2006.01）I;B08B13/00（2006.01）I;H01L21/67（2006.01）I;H01L31/18（2006.01）I;B01D46/10（2006.01）I | 分类 | 清洁; |
| 发明人 | 刘晓杰 | 申请（专利权）人 | 洛阳阿特斯光伏科技有限公司 |
| 代理机构 | 北京品源专利代理有限公司 | 代理人 | 胡彬 |
| 地址 | 471023河南省洛阳市洛龙科技园关林大道10号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型涉及硅片清洗技术领域，公开了一种硅片清洗装置。硅片清洗装置包括槽体和气管组件。待清洗的硅片置于槽体内的清洗液中，槽体的底部设置有出水口，出水口处设置有过滤网。气管组件包括气管和支架，支架固定在槽体底面，气管上开设多个通气孔，气管置于硅片的下方并固定在支架上；气管组件与过滤网沿竖直方向间隔设置，且过滤网位于气管组件在槽体底面上的投影外。本实用新型，降低了清理的难度，避免了碎片在槽体内部残留，保证后续的清洗效果。 |
