一种超薄四面体非晶碳膜的制备工艺
基本信息
| 申请号 | CN202210352227.7 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN114686807A | 公开（公告）日 | 2022-07-01 |
| 申请公布号 | CN114686807A | 申请公布日 | 2022-07-01 |
| 分类号 | C23C14/02（2006.01）I;C23C14/06（2006.01）I;C23C14/32（2006.01）I;C23C14/54（2006.01）I;C23C14/58（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 杨挺;吴春春;张云飞 | 申请（专利权）人 | 浙江大学杭州国际科创中心 |
| 代理机构 | 合肥汇融专利代理有限公司 | 代理人 | - |
| 地址 | 311200浙江省杭州市萧山区市心北路99号5楼 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供一种超薄四面体非晶碳膜的制备工艺，涉及非晶碳膜制备技术领域。所述超薄四面体非晶碳膜的制备工艺主要包括基体材料处理、基体变压蚀刻、联合变换弧流、电压、温度沉积薄膜和变温激冷处理等步骤。本发明克服了现有技术的不足，通过在蚀刻和沉积过程中对压强、温度、偏压的调整，有效提升最终薄膜的沉积速度，并且进一步提升薄膜的硬度降低其应力，同时保证各个厚度的薄膜性能的稳定性，并且通过变温激冷有效降低应力，综合提升非晶碳膜的性能。 |
