一种无掩膜光刻设备
基本信息
| 申请号 | CN202022844287.X | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN213750654U | 公开（公告）日 | 2021-07-20 |
| 申请公布号 | CN213750654U | 申请公布日 | 2021-07-20 |
| 分类号 | G03F7/20（2006.01）I | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 吴明仓 | 申请（专利权）人 | 广东思沃激光科技有限公司 |
| 代理机构 | 深圳中一联合知识产权代理有限公司 | 代理人 | 李金伟 |
| 地址 | 523000广东省东莞市松山湖高新技术产业开发区研发一路1号A栋2楼A区 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本申请适用于无掩膜光刻技术领域，提供了一种无掩膜光刻设备，包括用于产生面阵光的照明装置、设置于照明装置发出的面阵光的光路上的数字微镜器件、用于承载待加工的基板的载物台组件、设置于载物台组件和数字微镜器件之间的投影物镜，以及电气连接载物台组件和数字微镜器件的控制单元；数字微镜器件具有多个纵横排列的微反射镜单元，微反射镜单元反射的面阵光经过投影物镜后在基板上形成刻蚀光斑；各刻蚀光斑沿第一方向和与第一方向垂直的方向纵横排列，且刻蚀光斑能够沿第二方向扫描照射基板，第一方向和第二方向之间的夹角θ为锐角。控制单元控制微反射镜单元偏转，使得基板上的印制电路具有连续可变性。 |
