分光曝光系统
基本信息
| 申请号 | CN202023045894.6 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN214067574U | 公开（公告）日 | 2021-08-27 |
| 申请公布号 | CN214067574U | 申请公布日 | 2021-08-27 |
| 分类号 | G03F7/20（2006.01）I | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 郭党委;胡雅文;吴明仓 | 申请（专利权）人 | 广东思沃激光科技有限公司 |
| 代理机构 | 广州三环专利商标代理有限公司 | 代理人 | 张艳美;毛伟碧 |
| 地址 | 523000广东省东莞市松山湖园区研发一路1号104房 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种分光曝光系统，包括DMD微反射镜、分光镜、反射镜、第一成像组件及第二成像组件，DMD微反射镜、分光镜及第一成像组件由上往下依次设置，分光镜的镜面呈倾斜设置，反射镜于水平方向与分光镜邻设，反射镜的镜面与分光镜的镜面平行，第二成像组件位于反射镜的正下方。与现有技术相比，本实用新型的分光曝光系统借助分光镜及反射镜的配合，从而将DMD微反射镜上的画面分两路投影在工作台上，起到了两个DMD微反射镜同时工作的效果，使得曝光面得到两倍面积的图像，一方面节省了成本及安装空间，另一方面提高了曝光的效率。 |
