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一种无掩膜光刻设备和无掩膜光刻方法

基本信息

申请号	CN202011374596.3	申请日	-
公开（公告）号	CN112379578A	公开（公告）日	2021-02-19
申请公布号	CN112379578A	申请公布日	2021-02-19
分类号	G03F7/20(2006.01)I	分类	摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕;
发明人	吴明仓	申请（专利权）人	广东思沃激光科技有限公司
代理机构	深圳中一联合知识产权代理有限公司	代理人	李金伟
地址	523000广东省东莞市松山湖高新技术产业开发区研发一路1号A栋2楼A区
法律状态	-

摘要

本申请适用于无掩膜光刻技术领域，提供了一种无掩膜光刻设备和方法，设备包括照明装置、设置于照明装置的光路上的数字微镜器件、承载基板的载物台组件、设置于载物台组件和数字微镜器件之间的投影物镜，以及控制单元；数字微镜器件具有多个纵横排列的微反射镜单元，微反射镜单元反射的面阵光经过投影物镜后在基板上形成刻蚀光斑；各刻蚀光斑沿第一方向和与第一方向垂直的方向纵横排列，刻蚀光斑能够沿第二方向扫描照射基板；基板包括与载物台组件接触的第一底面、与第一底面相对且正对投影物镜的第二底面，以及平行于第二方向的第一侧面，载物台组件能够带动基板沿第一方向移动。控制单元控制微反射镜单元偏转，基板上的印制电路具有连续可变性。