一种倾斜式基片架镀膜装置
基本信息
| 申请号 | CN201120163872.1 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN202131366U | 公开（公告）日 | 2012-02-01 |
| 申请公布号 | CN202131366U | 申请公布日 | 2012-02-01 |
| 分类号 | C23C14/50(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 逄增伦 | 申请（专利权）人 | 青岛海德曼光电技术有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 266000 山东省青岛市城阳区高新技术开发区规划东10号线以东 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种倾斜式基片架镀膜装置，包括真空镀膜室、轨道和活动架，其中，活动架自上而下设置有多个横梁，横梁上进一步设置有槽托，槽托内设置有坡面槽，相邻两个横梁上的坡面槽彼此相对，横梁、坡面槽与槽托在制造时一体成型。真空镀膜室底部螺栓紧固有轨道，活动架的底部设置有轨道轮，轨道轮与轨道之间滑动连接。相邻两个彼此相对的坡面槽用于安置触摸屏，触摸屏的两端斜搭在坡面槽内。本实用新型结构简单，使用方便，避免切除触摸屏上下两边，避免资源浪费。 |
