一种化学机械抛光垫
基本信息
| 申请号 | CN202123092169.9 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN216759447U | 公开（公告）日 | 2022-06-17 |
| 申请公布号 | CN216759447U | 申请公布日 | 2022-06-17 |
| 分类号 | B24B37/26（2012.01）I;B24B37/22（2012.01）I | 分类 | 磨削；抛光; |
| 发明人 | 袁黎光;肖亮锋;王杰;刘健;石鑫;杨小牛 | 申请（专利权）人 | 广东粤港澳大湾区黄埔材料研究院 |
| 代理机构 | 广州粤高专利商标代理有限公司 | 代理人 | - |
| 地址 | 510700广东省广州市黄埔区连云路388号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种化学机械抛光垫。本实用新型的化学机械抛光垫包括上抛光层和下抛光层；所述上抛光层采用包括粘贴的方式设置在所述下抛光层的表面上，摒弃了缓冲层，使得该化学机械抛光垫可以直接使用；所述上抛光层为棱柱阵列层，且相邻的棱柱之间形成具有沟槽。从而无需采用铣削的方式加工开槽，减少原材料的浪费，降低抛光垫的制作成本，同时避免了铣削加工导致的碎屑在沟槽中的残留，提高生产的晶圆的质量。而且，所述上抛光层的棱柱为多边形棱柱，能提高抛光液分布均匀性，有效延缓抛光流出时间，提高抛光垫利用率。 |
