一种表面增强拉曼散射基底的制备方法
基本信息
| 申请号 | CN201310032239.2 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN103091983A | 公开（公告）日 | 2013-05-08 |
| 申请公布号 | CN103091983A | 申请公布日 | 2013-05-08 |
| 分类号 | G03F7/00(2006.01)I | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 潘革波;李丰;葛海雄 | 申请（专利权）人 | 南京丰强纳米科技有限公司 |
| 代理机构 | 南京知识律师事务所 | 代理人 | 汪旭东 |
| 地址 | 211100 江苏省南京市江宁经济技术开发区胜太路68号南京丰强纳米科技有限公司 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 一种表面增强拉曼散射基底的制备方法，包括如下步骤：1）准备带有图案的双层复合结构的柔性纳米压印模板；2）压印出有序纳米结构图案；3）真空蒸镀；4）除去纳米压印胶阻挡层；本发明方法可以应用于所有表面增强拉曼散射基底的制备，可以克服传统纳米压印制备SERS基底中存在的对基底要求苛刻，在形貌复杂、高曲率表面难以制备高分辨率的金属有序结构SERS基底的缺陷，且该方法工艺简单，能大面积、大规模、低成本地生产高性能SERS基底，有能力解决SERS基底的制备需求，能很好的满足目前的实际需求。 |
