一种光刻胶及其制备方法和应用以及光刻方法
基本信息
| 申请号 | CN201811265920.0 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN109212919A | 公开（公告）日 | 2019-01-15 |
| 申请公布号 | CN109212919A | 申请公布日 | 2019-01-15 |
| 分类号 | G03F7/42 | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 肖楠;宋里千 | 申请（专利权）人 | 泓坤微电子（厦门）有限公司 |
| 代理机构 | 厦门市精诚新创知识产权代理有限公司 | 代理人 | 泓坤微电子（厦门）有限公司;福建泓光半导体材料有限公司 |
| 地址 | 363000 福建省漳州高新区九湖镇林前村林前773号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明属于半导体及集成电路领域，公开了一种光刻胶及其制备方法和应用以及光刻方法。所述光刻胶含有树脂和光致产酸剂，所述树脂由20‑45wt％的单元单体Ⅰ、35‑65wt％的单元单体Ⅱ、10‑30wt％的单元单体Ⅲ共聚而成，所述单元单体Ⅰ、单元单体Ⅱ和单元单体Ⅲ的结构分别如式(1)、式(2)和式(3)所示。本发明提供的光刻胶能够提高光刻胶与衬底表面的粘附性，并加快光刻胶曝光的速率、降低光刻反应能量、降低光刻胶被刻蚀的速率或者降低显影时继续发生反应的概率，实现光刻胶与衬底表面间没有空洞或缺口，在填充到深沟槽底部后仍然能够被完全显影，衬底图形表面仍然被光刻胶完全覆盖。 |
