掩模版
基本信息
| 申请号 | CN202210534338.X | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN114755898A | 公开（公告）日 | 2022-07-15 |
| 申请公布号 | CN114755898A | 申请公布日 | 2022-07-15 |
| 分类号 | G03F9/00（2006.01）I;G03F7/00（2006.01）I | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 林岳明;季明华 | 申请（专利权）人 | 安徽艾可蓝环保股份有限公司 |
| 代理机构 | 苏州谨和知识产权代理事务所（特殊普通合伙） | 代理人 | - |
| 地址 | 201306上海市浦东新区临港新片区江山路2699弄1号楼5楼南侧 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本申请涉及一种掩模版，包括透明掩模基板、设置于透明掩模基板两侧的第一功能层和第二功能层、及至少两个探测孔，探测孔纵向贯通于透明掩模基板、第一功能层和第二功能层，以获取位置数据的装置的探针穿过，其中，第一功能层为包括第一遮光层和第一光刻胶层，或者为图案层；第二功能层为包括第二遮光层和第二光刻胶层，或者为标记层，标记层包括至少两个对准标记。探针可移动至标记层上获取标对准标记的位置数据，探针可穿过探测孔移动至晶圆上，以准确获取位于晶圆上的基准标记位置数据，易于在光刻时实现晶圆和掩模版的纳米级定位对准，提高光刻套刻时对准的精度，制备得到纳米级对准套刻的图像。 |
