一种光掩模保护罩、具有保护结构的光掩模及其制备方法
基本信息
| 申请号 | CN202210090140.7 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN114114824A | 公开（公告）日 | 2022-03-01 |
| 申请公布号 | CN114114824A | 申请公布日 | 2022-03-01 |
| 分类号 | G03F1/22（2012.01）I | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 季明华;任新平;黄早红;董于虎 | 申请（专利权）人 | 安徽艾可蓝环保股份有限公司 |
| 代理机构 | 上海光华专利事务所（普通合伙） | 代理人 | 罗泳文 |
| 地址 | 200120上海市浦东新区中国（上海）自由贸易试验区临港新片区江山路2699弄1号楼5楼南侧 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供一种光掩模保护罩、具有保护结构的光掩模及其制备方法。该光掩模包括：第一透光基板；图形掩膜层，包括两个以上的凸起状图形，凸起状图形形成于第一透光基板的正面；第二透光基板；用于容置所述图形掩膜层的凹陷状图层，包括两个以上的可容置一个或多个凸起状图形的凹槽，凹陷状图层形成于第二透光基板的正面；当第一透光基板的正面与第二透光基板的正面对应叠合设置时，二者可形成密封腔，将图形掩膜层与凹陷状图层封闭于所述密封腔中。本发明可以有效控制光掩模雾化的问题，可以使得图形掩膜层始终保持洁净，并使图形掩膜层始终与外部环境隔离，从而可以控制雾化问题，且不需要定期清洁，大大节省了设备成本和工艺成本。 |
