一种掩模基版的制备方法

基本信息

申请号 CN202110535823.4 申请日 -
公开(公告)号 CN113325663A 公开(公告)日 2021-08-31
申请公布号 CN113325663A 申请公布日 2021-08-31
分类号 G03F1/60(2012.01)I;G03F1/68(2012.01)I;C23C14/00(2006.01)I;C23C14/06(2006.01)I;C23C14/08(2006.01)I;C23C14/58(2006.01)I 分类 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术〔4〕;
发明人 车翰宣;张雄哲 申请(专利权)人 安徽艾可蓝环保股份有限公司
代理机构 - 代理人 -
地址 201306上海市浦东新区层林路688号1号楼5楼
法律状态 -

摘要

摘要 本发明提供了一种掩模基版的制备方法,该方法包括:提供透明基板;在透明基板上沉积遮光膜;在遮光膜上沉积防反射膜;采用硫酸和/或双氧水对防反射膜进行氧化处理,形成防反射膜氧化膜;在防反射膜氧化膜上涂覆光刻胶,形成光刻胶层;光刻胶为化学放大型光刻胶。