一种掩模基版的制备方法
基本信息
申请号 | CN202110535823.4 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN113325663A | 公开(公告)日 | 2021-08-31 |
申请公布号 | CN113325663A | 申请公布日 | 2021-08-31 |
分类号 | G03F1/60(2012.01)I;G03F1/68(2012.01)I;C23C14/00(2006.01)I;C23C14/06(2006.01)I;C23C14/08(2006.01)I;C23C14/58(2006.01)I | 分类 | 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术〔4〕; |
发明人 | 车翰宣;张雄哲 | 申请(专利权)人 | 安徽艾可蓝环保股份有限公司 |
代理机构 | - | 代理人 | - |
地址 | 201306上海市浦东新区层林路688号1号楼5楼 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本发明提供了一种掩模基版的制备方法,该方法包括:提供透明基板;在透明基板上沉积遮光膜;在遮光膜上沉积防反射膜;采用硫酸和/或双氧水对防反射膜进行氧化处理,形成防反射膜氧化膜;在防反射膜氧化膜上涂覆光刻胶,形成光刻胶层;光刻胶为化学放大型光刻胶。 |
