曝光光线频率增强装置、光掩模及其制备方法
基本信息
| 申请号 | CN202210644423.1 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN114740687A | 公开（公告）日 | 2022-07-12 |
| 申请公布号 | CN114740687A | 申请公布日 | 2022-07-12 |
| 分类号 | G03F1/26（2012.01）I;G03F1/38（2012.01）I;G03F7/20（2006.01）I;G02B5/00（2006.01）I | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 季明华;黄早红;任新平;林岳明 | 申请（专利权）人 | 安徽艾可蓝环保股份有限公司 |
| 代理机构 | 上海光华专利事务所（普通合伙） | 代理人 | - |
| 地址 | 201306上海市浦东新区中国上海市临港新片区层林路688号1号楼5楼 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供一种曝光光线频率增强装置、光掩模及其制备方法，该装置包括透光基板及表面等离子激元层，其中，表面等离子激元层包括多个纳米单元结构，多个所述纳米单元结构分别在所述表面等离子激元层平面的第一方向和第二方向上设置为可与曝光光线的波长匹配而产生和频效应的周期性间隔排布，和频效应可形成穿过所述透光基板的和频光，和频光的功率占穿过所述表面等离子激元层的曝光光线的总功率的比例＞30%。通过频率增强该装置，使曝光光线含有30%以上的比原曝光光线频率更高（波长更短）和频光，因此，本发明可大大提高投影式光刻工艺的分辨率和对比度。 |
