一种具有保护结构的光掩模及其制备方法

基本信息

申请号 CN202111383986.1 申请日 -
公开(公告)号 CN114217503A 公开(公告)日 2022-03-22
申请公布号 CN114217503A 申请公布日 2022-03-22
分类号 G03F1/00(2012.01)I;G03F1/68(2012.01)I 分类 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术〔4〕;
发明人 季明华;任新平;黄早红 申请(专利权)人 安徽艾可蓝环保股份有限公司
代理机构 上海光华专利事务所(普通合伙) 代理人 罗泳文
地址 200120上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区临港新片区环湖西二路888号C楼
法律状态 -

摘要

摘要 本发明提供一种具有保护结构的光掩模及其制备方法,制备方法包括步骤:提供第一透光基板,在第一透光基板表面刻蚀出凹陷状的图形凹槽;于第一透光基板的图形凹槽中的形成图形掩膜层;提供第二透光基板;键合第一透光基板和第二透光基板,图形凹槽与第二透光基板配合组成密封腔,以密封图形掩膜层。本发明可以有效控制光掩模雾化的问题,可以使得图形掩膜层始终保持洁净,并使图形掩膜层始终与外部环境隔离,从而可以控制雾化问题,且不需要定期清洁,大大节省了设备成本和工艺成本。