一种具有保护结构的光掩模及其制备方法
基本信息
| 申请号 | CN202111383986.1 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN114217503A | 公开（公告）日 | 2022-03-22 |
| 申请公布号 | CN114217503A | 申请公布日 | 2022-03-22 |
| 分类号 | G03F1/00（2012.01）I;G03F1/68（2012.01）I | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 季明华;任新平;黄早红 | 申请（专利权）人 | 安徽艾可蓝环保股份有限公司 |
| 代理机构 | 上海光华专利事务所（普通合伙） | 代理人 | 罗泳文 |
| 地址 | 200120上海市浦东新区中国（上海）自由贸易试验区临港新片区环湖西二路888号C楼 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供一种具有保护结构的光掩模及其制备方法，制备方法包括步骤：提供第一透光基板，在第一透光基板表面刻蚀出凹陷状的图形凹槽；于第一透光基板的图形凹槽中的形成图形掩膜层；提供第二透光基板；键合第一透光基板和第二透光基板，图形凹槽与第二透光基板配合组成密封腔，以密封图形掩膜层。本发明可以有效控制光掩模雾化的问题，可以使得图形掩膜层始终保持洁净，并使图形掩膜层始终与外部环境隔离，从而可以控制雾化问题，且不需要定期清洁，大大节省了设备成本和工艺成本。 |
