一种具有保护结构的光掩模及其制备方法
基本信息
申请号 | CN202111383986.1 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN114217503A | 公开(公告)日 | 2022-03-22 |
申请公布号 | CN114217503A | 申请公布日 | 2022-03-22 |
分类号 | G03F1/00(2012.01)I;G03F1/68(2012.01)I | 分类 | 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术〔4〕; |
发明人 | 季明华;任新平;黄早红 | 申请(专利权)人 | 安徽艾可蓝环保股份有限公司 |
代理机构 | 上海光华专利事务所(普通合伙) | 代理人 | 罗泳文 |
地址 | 200120上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区临港新片区环湖西二路888号C楼 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本发明提供一种具有保护结构的光掩模及其制备方法,制备方法包括步骤:提供第一透光基板,在第一透光基板表面刻蚀出凹陷状的图形凹槽;于第一透光基板的图形凹槽中的形成图形掩膜层;提供第二透光基板;键合第一透光基板和第二透光基板,图形凹槽与第二透光基板配合组成密封腔,以密封图形掩膜层。本发明可以有效控制光掩模雾化的问题,可以使得图形掩膜层始终保持洁净,并使图形掩膜层始终与外部环境隔离,从而可以控制雾化问题,且不需要定期清洁,大大节省了设备成本和工艺成本。 |
