一种MOCVD装置
基本信息
| 申请号 | CN202011605274.5 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN112609239A | 公开（公告）日 | 2021-04-06 |
| 申请公布号 | CN112609239A | 申请公布日 | 2021-04-06 |
| 分类号 | C30B25/14(2006.01)I | 分类 | 晶体生长〔3〕; |
| 发明人 | 蒋国文;贾晓龙;崔志强;孟锡俊;徐广源;曾一平 | 申请（专利权）人 | 北京中科优唯科技有限公司 |
| 代理机构 | 北京和信华成知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 张永辉 |
| 地址 | 100000北京市顺义区中关村科技园区顺义园临空二路1号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明涉及一种MOCVD装置，包括气流分布调节机构，气流分布调节机构包括：第一板，第一板包括由半径划分的多个第一区域和第二区域；第一区域内设置至少一个第一通风孔，第二区域内设置至少一个第二通风孔；由第一板中心径向向外，第一区域的通风面积逐渐增大，第二区域的通风面积逐渐减小；第二板，第二板包括第三通风孔和挡片，第二板相对于第一板在第一位置、第二位置之间转动；在第一位置，第三通风孔与第一通风孔连通，挡片挡住第二通风孔；在第二位置，第三通风孔与第二通风孔连通，挡片挡住第一通风孔。本发明的结构简单，能够快速调节托盘径向气流分布，保证生长材料的厚度均匀性。 |
