一种正性光敏聚酰亚胺树脂及其制备方法
基本信息
| 申请号 | CN201911191928.1 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN111393643A | 公开（公告）日 | 2020-07-10 |
| 申请公布号 | CN111393643A | 申请公布日 | 2020-07-10 |
| 分类号 | C08G73/10(2006.01)I;G03F7/039(2006.01)I | 分类 | - |
| 发明人 | 向文胜;徐楠;张兵 | 申请（专利权）人 | 艾森半导体材料（南通）有限公司 |
| 代理机构 | 北京科亿知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 艾森半导体材料（南通）有限公司 |
| 地址 | 226000江苏省南通市崇川区南通市开发区星湖大道1692号21(22)幢12217室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种正性光敏聚酰亚胺树脂及其制备方法，其化学结构式如下：其中Ar1是二酐单体，Ar2是二胺单体，x＝0.2～1，n＝5～200。本发明光敏聚酰亚胺树脂制备工艺简单、反应条件温和、易放大生产；由于在树脂制备过程中已经完全亚胺化，因此，光刻图形不需高温固化处理，光敏树脂也无须低温保存，而光敏树脂结构中的羧基使得其可以在碱性水溶液中显影，对环境友好。由该光敏聚酰亚胺树脂所制备的光刻胶具有留膜率和对比度高、固化温度低、图形分辨率、可室温保存等优点。 |
