一种光刻胶剥离液、其制备方法及应用
基本信息
| 申请号 | CN202111548778.2 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN114217513A | 公开（公告）日 | 2022-03-22 |
| 申请公布号 | CN114217513A | 申请公布日 | 2022-03-22 |
| 分类号 | G03F7/42 | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 张伟明;章学春;梁重时 | 申请（专利权）人 | 北京盛剑微电子技术有限公司 |
| 代理机构 | 北京超凡宏宇专利代理事务所（特殊普通合伙） | 代理人 | 宋南 |
| 地址 | 100020 北京市朝阳区工人体育场北路甲6号11层1106室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种光刻胶剥离液、其制备方法及应用，涉及剥离剂技术领域。按质量份数计，光刻胶剥离液包括二环脒类化合物20‑60份、缓冲试剂1‑10份和有机溶剂40‑80份。相比TMAH等体系的光刻胶剥离液，通过改进光刻胶剥离液的有机碱组成，利用DBN和DBU等二环脒类化合物作为有机碱，其既具有强碱的性能，也具有抗蚀剂的效果，有效改善了光刻胶剥离液含水量高造成的剥胶后残胶多、金属层腐蚀严重的问题，在半导体领域和面板显示领域有着良好的应用及市场前景。 |
