一种导模法生长β-Ga

基本信息

申请号 CN201921952076.9 申请日 -
公开(公告)号 CN211848204U 公开(公告)日 2020-11-03
申请公布号 CN211848204U 申请公布日 2020-11-03
分类号 C30B15/34(2006.01)I;C30B29/16(2006.01)I 分类 晶体生长〔3〕;
发明人 武志龙;丁言国;叶崇志 申请(专利权)人 上海新漫晶体材料科技有限公司
代理机构 - 代理人 -
地址 201821上海市嘉定区叶城路1611号
法律状态 -

摘要

摘要 本实用新型公开了一种导模法生长β‑Ga2O3晶体的生长装置,包括坩埚、盖板、焊接片、模具组件;在所述坩埚的上方设置相对放置的所述盖板;在盖板中间设置模具组件;在模具组件的两侧与焊接片的一端焊接,焊接片的一端搭接放在坩埚上;盖板与模具组件和焊接片之间无缝隙;利用上述的导模法生长β‑Ga2O3晶体的生长装置生长出来的β‑Ga2O3晶体,直接长出片状晶体,减少了许多工序,有效节省了人工和原料成本,同时,在坩埚上设置锅盖的结构,解决了β‑Ga2O3晶体的组分中存在易挥发物质,会对单晶炉,籽晶等造成污染的技术问题。