深孔内壁电弧离子镀膜方法
基本信息
| 申请号 | CN200910303933.7 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN101597750B | 公开（公告）日 | 2011-11-16 |
| 申请公布号 | CN101597750B | 申请公布日 | 2011-11-16 |
| 分类号 | C23C14/32(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 林国强;石昌仑;王文涛;刘琪 | 申请（专利权）人 | 大连理工大学技术转移中心有限公司 |
| 代理机构 | 大连理工大学专利中心 | 代理人 | 大连理工大学;大连理工常州研究院有限公司 |
| 地址 | 116085 辽宁省大连市甘井子区凌工路2号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 深孔内壁电弧离子镀膜方法属于材料科学与工程技术领域。涉及一种用电弧离子镀在具有深孔结构的模具和管子内壁沉积薄膜的方法。其特征在于，在镀膜过程中同时使用工件周围的不均匀磁场与脉冲偏压，利用电磁场与等离子体的相互作用达到在深处镀膜的目的。使用的磁铁的磁感应强度为500～8000高斯、长度20～150mm，磁铁到工件孔内壁和孔端面的距离与磁感应强度成正比，符合L＝(B±500)/40(mm)关系；使用的脉冲偏压幅值为200～800V，频率5～40kHz，占空比5～40％。其效果和益处是在具有管孔结构的工件内壁镀膜，镀膜的深度大于2倍孔径。广泛用于机械制造领域中具有内孔结构的零件和模具的内表面镀膜。 |
