一种高阻隔性光学薄膜及其制备方法和应用专利查询专利号|摘要-满商公司网

一种高阻隔性光学薄膜及其制备方法和应用

基本信息

申请号	CN201710025909.6	申请日	-
公开（公告）号	CN106893127B	公开（公告）日	2020-05-22
申请公布号	CN106893127B	申请公布日	2020-05-22
分类号	C08J7/048;C09D129/04;C09D123/06;C09D169/00;C09D133/12;C09D125/06;C08L67/02;C08L69/00	分类	有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物;
发明人	徐瑞璋;向爱双;丁玲;张磊	申请（专利权）人	武汉保丽量彩科技有限公司
代理机构	北京轻创知识产权代理有限公司	代理人	陈卫
地址	430075 湖北省武汉市东湖新技术开发区高新大道999号
法律状态	-

摘要

本发明涉及光学膜制备领域，具体涉及一种高阻隔性光学薄膜及其制备方法和应用。该光学薄膜由光学基膜、氧气阻隔膜和水汽阻隔膜复合而成，所述光学基膜的上表面涂有所述氧气阻隔膜，所述氧气阻隔膜的上表面涂有所述水汽阻隔膜，所述氧气阻隔膜位于所述光学基膜与所述水汽阻隔膜之间。其制备方法包括：S1.疏水改性PVA阻隔液及隔水阻隔液的制备；S2.疏水改性PVA阻隔液的涂布及干燥；S3.隔水阻隔液的涂布及干燥。本发明提供的高阻隔性光学薄膜产品由光学基膜、氧气阻隔膜和水汽阻隔膜三层复合而成，得到产品具有极低的透氧透水性，可用作量子点膜的外层阻隔膜或用作要求阻隔外界氧气和水汽的食品包装膜等；制备方法简单，生产成本低。