一种碳化硅晶片用陶瓷盘的平面度修复装置
基本信息
| 申请号 | CN202123111341.0 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN216657519U | 公开（公告）日 | 2022-06-03 |
| 申请公布号 | CN216657519U | 申请公布日 | 2022-06-03 |
| 分类号 | B24B29/02（2006.01）I;B24B27/00（2006.01）I;B24B41/06（2012.01）I;B24B41/02（2006.01）I;B24B47/12（2006.01）I;B24B47/16（2006.01）I;B24B47/22（2006.01）I;B24B49/12（2006.01）I;B24B47/00（2006.01）I | 分类 | 磨削；抛光; |
| 发明人 | 李有群;陈辉;贺贤汉;卓世异;孙大方 | 申请（专利权）人 | 安徽微芯长江半导体材料有限公司 |
| 代理机构 | 铜陵市天成专利事务所（普通合伙） | 代理人 | - |
| 地址 | 244000安徽省铜陵市经济开发区西湖三路 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型涉及碳化硅晶片技术领域，具体为一种碳化硅晶片用陶瓷盘的平面度修复装置，包括底座，还包括调节支撑机构、固定旋转机构、抛光修复机构、抛光液上料机构和检测观察机构，所述调节支撑机构固定安装在底座顶部，本实用新型通过设置有抛光修复机构和固定旋转机构，将抛光头固定安装在转轴底部，将陶瓷盘固定安装在固定架顶部，再打开转台使转台带动陶瓷盘进行旋转，使陶瓷盘顶部的放置槽与抛光头一一对应，再打开推杆使推杆带动安装板向下移动，直至抛光头与陶瓷盘顶部的放置槽相接触，再打开伺服电机使伺服电机带动转轴和抛光头进行旋转，从而使抛光头对放置槽内部进行抛光修复，可以对陶瓷盘的修复更加的精准。 |
