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矢量字符笔画填充优化方法

基本信息

申请号	2020112114935	申请日	-
公开（公告）号	CN112287637A	公开（公告）日	2021-01-29
申请公布号	CN112287637A	申请公布日	2021-01-29
分类号	G06F40/109(2020.01)I	分类	计算；推算；计数;
发明人	刘飞扬;崔瀚之	申请（专利权）人	深圳高通半导体有限公司
代理机构	深圳市康弘知识产权代理有限公司	代理人	尹彦
地址	518000广东省深圳市福田区沙头街道天安社区泰然四路泰然科技园210栋4G03
法律状态	-

摘要

本发明公开了一种矢量字符笔画填充优化方法。定义一个数据表示单位的长度为16个二进制位的总位长,并以定义的数据表示单位来表示矢量字符的单个闭环笔画轮廓，有利于横向扫描笔画轮廓过程中更准确地分析出笔画轮廓坐标点的位置，从而在横向填充笔画轮廓左右边界点中间区域时尽可能地还原字符，达到了等同去除纵向分析填充的效果，解决了对嵌入式主控性能的依赖问题，同时减少了RAM资源的占用；采用包含一个数据表示单位信息的掩码值，在填充字符笔画时，一方面可以避免临时存储的问题，大大压缩了RAM的资源使用情况，另一方面可以减少填充次数，提高代码执行的效率，提升了用户体验感。该优化方法对于大字号矢量字符笔画填充同样有较大实用效果。