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一种新型便于取件的高分子抛光机

基本信息

申请号 CN202023314753.X 申请日 -
公开（公告）号 CN214292526U 公开（公告）日 2021-09-28
申请公布号 CN214292526U 申请公布日 2021-09-28
分类号 B24B29/02（2006.01）I;B24B41/06（2012.01）I;B24B41/02（2006.01）I;B24B41/00（2006.01）I 分类 磨削；抛光;
发明人 冯伟文 申请（专利权）人 广州市纬略实业股份有限公司
代理机构 广州本诺知识产权代理事务所（普通合伙） 代理人 梁鹏钊
地址 511400广东省广州市番禺区市桥街桥兴大道481、483、485
法律状态 -

摘要

摘要 本实用新型涉及抛光机技术领域，且公开了一种新型便于取件的高分子抛光机，包括底座、移动组件、第一气缸、电机和抛光头，底座上表面左右两侧均固定设有立柱，立柱的上端共同固定设有顶板，底座的上方水平设有放置板，放置板的表面设置有夹持机构，放置板的下表面左侧固定设有旋转杆，底座的上端左侧固定设有与旋转杆的端部转动连接的支撑杆，底座的上表面右侧且位于放置板的外侧设有U型固定板，U型固定板的竖直部两侧均设有用于带动放置板旋转的调节机构。本实用新型便于将抛光后的高分子新型玉石进行取放，降低了工作人员的劳动强度。