一种具有多工位的高分子抛光机

基本信息

申请号 CN202023314815.7 申请日 -
公开(公告)号 CN214186516U 公开(公告)日 2021-09-14
申请公布号 CN214186516U 申请公布日 2021-09-14
分类号 B24B9/20;B24B41/06;B24B47/00 分类 磨削;抛光;
发明人 冯伟文 申请(专利权)人 广州市纬略实业股份有限公司
代理机构 广州本诺知识产权代理事务所(普通合伙) 代理人 梁鹏钊
地址 511400 广东省广州市番禺区市桥街桥兴大道481、483、485
法律状态 -

摘要

摘要 本实用新型涉及抛光机技术领域,且公开了一种具有多工位的高分子抛光机,包括底板和立板,所述立板固定设置于底板的后侧中端,所述立板的前侧滑动设置有抛光机,所述底板的上表面且位于立板的前侧设置有旋转盘,所述旋转盘下表面通过转杆与底板转动连接,所述底板的下方中部设置有第一电机,所述第一电机的输出端与转杆的下端固定连接,所述旋转盘的上表面固定设置有多个固定座,多个所述固定座的内部均滑动设置有多个滑杆,多个所述滑杆的外侧一端均延伸至对应的固定座的外侧,所述旋转盘的上表面中部通过第一滚动轴承转动设置有丝杆,所述丝杆的杆壁螺纹套接有连接板。本实用新型能够对多个工位内的工件进行自动夹持固定,省时省力。