一种可直接伸入工件内部抛光的高分子抛光机
基本信息
申请号 | CN202023314809.1 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN214186693U | 公开(公告)日 | 2021-09-14 |
申请公布号 | CN214186693U | 申请公布日 | 2021-09-14 |
分类号 | B24B29/02(2006.01)I;B24B41/02(2006.01)I;B24B41/04(2006.01)I;B24B55/04(2006.01)I;B24B47/12(2006.01)I;B24B55/06(2006.01)I;B24B55/12(2006.01)I | 分类 | 磨削;抛光; |
发明人 | 冯伟文 | 申请(专利权)人 | 广州市纬略实业股份有限公司 |
代理机构 | 广州本诺知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人 | 梁鹏钊 |
地址 | 511400广东省广州市番禺区市桥街桥兴大道481、483、485 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本实用新型涉及抛光机技术领域,且公开了一种可直接伸入工件内部抛光的高分子抛光机,包括防尘罩和抛光电机,抛光电机的底部固定设有固定板,抛光电机的输出端固定设有转轴,转轴的底部穿过防尘罩的顶部并位于防尘罩的内部,且固定设有打磨轮,转轴的轴壁套接有弹簧,弹簧的两端分别与固定板和防尘罩固定连接,固定板的两侧均固定设有连接板,左侧连接板的底部固定设有两个对称设置的竖板,两个竖板的内部设有往复传动机构,右侧连接板的顶部固定设有活塞筒,活塞筒的内表面接触连接有活塞,活塞筒的右侧设有碎屑清理机构。本实用新型能够在抛光过程中实时对碎屑进行快速的抽吸清理。 |
